青光眼引流裝置：暴露和感染的風險
據《Americanjournalofophthalmology》2015年9月報道
來自美國亞特蘭大埃默裡大學眼科系的LevinsonJD教授進行了一項回顧性病例研究，分析了青光眼引流裝置植入後的設備暴露和眼內感染問題。
LevinsonJD教授對2000年至2010年間在一家醫學中心接受青光眼引流管植入術的763例患者病歷進行了分析，主要觀察指標包括設備暴露和眼內感染。
分析結果顯示，763例患者分為702例初次植入患者和61例再次植入患者。702例初次植入患者中，41例發生暴露（5.8％）。植入位置是一個稍明顯的風險因素。眼球上部和下部的暴露率分別為12.8％（5/39）和5.4％（36/663），（P=0.056）。鼻下象限首次植入的暴露率最高（17.2％，5/29）。再次植入的暴露率為13.1％（8/61），鼻下象限的暴露率也為最高（20％，5/25）。49次暴露中，8次與眼內感染相關（16.3％）。
研究人員表示，作為一個暴露風險因素，植入部位接近但未達到統計學顯著意義。眼下部的暴露風險較高。還需進行更多的研究來確定設備暴露的可變風險因素。